Дълбоко пречистване на веществата
Вид на курса: задължителен, редовно		Ниво на курса: бакалавър		Година: 4
Семестър: 7	Брой кредити: 6
Цел на курса: Чистите и свръхчисти вещества играят важна роля в съвременните технологии. Предлаганият курс разглежда дълбокото пречистване на веществата, което има своята специфика, както във физикохимичен, така и в технологично-конструктивен план. Предлаганата дисциплина дава познания, необходими в материалознанието, технологията на материалите, полупроводниковите прибори и интегрални схеми.
Необходими условия: 1) Дисциплината “Дълбоко пречистване на веществата” използва познания от физикохимията, аналитичната химия, процеси и апарати в химическото производство, топло- и масообменни процеси, механика на флуидите, които дисциплини определят входните връзки при изучаване теорията и практиката на дълбокото пречистване на веществата. 2) За провеждането на лекционния курс са необходими: лекционна зала с шрайбпроектор или мултимедийно оборудване и лаборатория с необходимото оборудване за провеждане на упражнения.
Съдържание на курса: Студентите ще се запознаят с основните методи за дълбоко пречистване, с техните теоретични основи и апаратурна реализация. Предвид специфичното структуриране на обучението в специализацията “Полупроводникови технологии и материали” някои от традиционните методи за дълбоко пречистване са застъпени по-подробно в други курсове, четени в специализацията. В програмата са представени и универсални методи за аналитичен контрол на микропримеси, застъпени са и критериите за избор на аналитичен метод и оценка на възможностите на съвременните инструментални методи. Лекционният материал е илюстриран с подходящи упражнения, ползващи материалната база на катедрата.
Препоръчителна литература: 1. Г.Г.Девятых, Ю.Е.Еллиев, Глубокая очистка веществ, Изд.Высш.школа, Москва, 1990 г. 2. Г.Г.Девятых, Ю.Е.Еллиев, Введение в теорию глубокой очистки веществ, Изд.Наука, Москва, 1981 г. 3. Г.Г.Девятых, Ю.Е.Еллиев, Глубокая очистка веществ, Изд.Высш.школа, Москва, 1974. 4. Г.Г.Девятых, М.Ф.Чурбанов, Методы получения веществ особой чистотой, Изд.Знание, Москва, 1976 г. 5. Д.Б.Степин, И.Г.Горштейн и др., Методы получения особочистых неорганических веществ, Изд.Химия, Москва, 1969 г. 6. П.Пешев, Чисти вещества, Изд.Техника, София, 1966 г. 7. Д.Джоглев, Технология на полупроводниковите материали, Изд.Техника, София, 1978 г. 8. И.Добревски, Йонообменни процеси и материали, Изд.Техника, София, 1989 г. 9. И.Д.Добревски, М.И.Димова-Тодорова и др., Ръководство за упражнения по технология на водата, част I, Изд.Техника, София, 1989 г. 10. И.Д.Добревски, А.Т.Звездов и др., Ръководство за упражнения по технология на водата, част II, Изд.Техника, София, 1990 г. 11. А.Э.Рафальсон, А.М.Шерешевский, Масспектрометрические приборы, Атомиздат, Москва, 1968 г. 12. Е.Ф.Замора, М.Д.Матвийкив, Технологическая гигиена в призводстве микросхем, Изд.Каменяр, Львов, 1975 г. 13. И.Д.Голото,Б.П.Докучаев и др.,Чистота в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем, Изд.Энергия, Москва, 1975 г. 14. Д.Еленков, Процеси и апарати в химическата промишленост, Изд.Техника, София, 1962 г. 15. А.Г.Касаткин, Основные процессы и аппараты химической технологии, Госхимиздат, Москва, 1960 г. 16. Leybold Inficon Inc., Manual, Quadrex 200 Residual Gas Analyser. 17. Perkin Elmer, Manual, AES-ICP Plasma 40.
Методи на преподаване: Лекции, лабораторни упражнения.			Методи на оценяване: Писмен и устен изпит.
Кредити по видове дейност: Аудиторна заетост: 2,6 к. Извънаудиторна заетост: 3,4 к.